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华体会hth体育最新登录-首批芯片研发设施时间表已确定
来源：AIP计划在未来四年内投入运营的三座设施将成为国家半导体技术中心的支柱。近日，美国商务部宣布了首批三个半导体研发设施的选址程序，这些设施将组成国家半导体技术中心，这是一项由美国《芯片和科学法案》资助的数十亿美元的计划。国家半导体技术中心的运营机构Natcast打算在未来四年内使这些设施投入运营
2025-07-03 -
华体会hth体育最新登录-Qualitas Semiconductor宣布韩国国内首个PCIe 6.0 PHY IP开发完成
来源：Design Reuse领先的高速接口IP供应商QUALITAS SEMICONDUCTOR（以下简称QUALITAS）宣布成功开发其PCIe 6.0 PHY IP，这是推动外围组件互连技术发展的一项重大成就。该解决方案采用 5nm 工艺技术设计，满足了AI时代数据传输所必需的高带宽和速度要求
2025-07-03 -
华体会hth体育最新登录-总投资12亿元 安芯电子车规级6英寸晶圆设计制造项目开工
来源：池州新闻 7月13日，安芯电子车规级6英寸晶圆设计制造项目在池州经开区开工，建成后将填补我市大尺寸晶圆制造的空白。项目计划总投资12亿元，建设内容包括年产60万片车规级6英寸TVS、FRD 芯片设计制造项目以及配套的IGBT模块封装测试项目，达产达效后，预计可新增年销售收入7亿元。▲调整后厂区
2025-07-03 -
华体会hth体育最新登录-TEL、富士金和TMEIC开发出沉积工艺用新型臭氧浓度监测仪
来源：TOKYO ELECTRON前言 近日，Tokyo Electron(TEL)、富士金株式会社和TMEIC株式会社共同开发出一款调控半导体制造的沉积工艺中臭氧浓度的新型监测仪，并对该监测仪与臭氧发生器的兼容性进行全面测试。此次的联合开发也是TEL发起并推动的供应链倡议E-COMPASS的一部分
2025-07-03 -
华体会hth体育最新登录-国产厂商引入首台光刻机设备！
来源：宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的重点设备。光掩模版是集成电路制造过程中光刻工艺所使用的关键部件，类似于相机“底片”，光线经过掩膜版后，可在晶圆表面曝光形成
2025-07-02
